RAM工艺打造。1-gamma是美光第六代10nm级节点,也是其首次采用EUV光刻技术量产的DRAM制程,单片晶圆输出密度较前代提升超30%,16Gb DDR5芯片速度快15%、功耗降超20%。 封装方面,该内存采用3D堆叠与硅通孔互联技术,将多颗DRAM颗粒立体堆叠,有效提升了单条容量和信号传输效率
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